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三氟化镓

三氟化镓GaF3)是一种无机化合物。这种白色固体的熔点超过1000°C,但是在950°C左右就会升华。它具有FeF3型结构,镓原子为6配位。[1]三氟化镓可由F2HFGa2O3反应制得,而(NH4)3GaF6的热分解也可以制得它。[2]三氟化镓几乎不溶于水。[2]蒸发GaF3和HF的混合溶液可以获得三水合物GaF3·3H2O,后者受热时水解形成碱式盐GaF2(OH)。[2]三氟化镓与无机酸反应生成剧毒的氢氟酸

三氟化镓
别名 gallium trifluoride
识别
CAS号 7783-51-9  
PubChem 82211
ChemSpider 74191
SMILES
 
  • F[Ga](F)F
InChI
 
  • 1/3FH.Ga/h3*1H;/q;;;+3/p-3
InChIKey WXXZSFJVAMRMPV-DFZHHIFOAM
性质
化学式 GaF3
摩尔质量 126.718 g·mol⁻¹
外观 白色粉末
密度 4.47 g/cm3
熔点 800 °C
沸点 1000°C
溶解性 0.0002 g/100 mL
结构
晶体结构 三方晶系hR24
空间群 R-3c, No. 167
危险性
欧盟分类 未列出
NFPA 704
0
3
2
 
若非注明,所有数据均出自标准状态(25 ℃,100 kPa)下。
轴向结构图 沿c轴结构图 Ga的配位构型 F的配位构型

参考资料 编辑

  1. ^ Greenwood, N. N.; Earnshaw, A. Chemistry of the Elements 2nd. Oxford:Butterworth-Heinemann. 1997. ISBN 0-7506-3365-4. 
  2. ^ 2.0 2.1 2.2 Anthony John Downs, (1993), Chemistry of Aluminium, Gallium, Indium, and Thallium, Springer, ISBN 978-0-7514-0103-5

扩展阅读 编辑

  • Barrière, A.S.; Couturier, G.; Gevers, G.; Guégan, H.; Seguelond, T.; Thabti, A.; Bertault, D. Preparation and characterization of gallium(III) fluoride thin films. Thin Solid Films. 1989, 173 (2): 243. doi:10.1016/0040-6090(89)90140-5. 

三氟化镓, gaf3, 是一种无机化合物, 这种白色固体的熔点超过1000, 但是在950, c左右就会升华, 它具有fef3型结构, 镓原子为6配位, 可由f2或hf与ga2o3反应制得, 3gaf6的热分解也可以制得它, 几乎不溶于水, 蒸发gaf3和hf的混合溶液可以获得三水合物gaf3, 3h2o, 后者受热时水解形成碱式盐gaf2, 与无机酸反应生成剧毒的氢氟酸, 别名, gallium, trifluoride识别cas号, 7783, pubchem, 82211chemspider, 74191sm. 三氟化镓 GaF3 是一种无机化合物 这种白色固体的熔点超过1000 C 但是在950 C左右就会升华 它具有FeF3型结构 镓原子为6配位 1 三氟化镓可由F2或HF与Ga2O3反应制得 而 NH4 3GaF6的热分解也可以制得它 2 三氟化镓几乎不溶于水 2 蒸发GaF3和HF的混合溶液可以获得三水合物GaF3 3H2O 后者受热时水解形成碱式盐GaF2 OH 2 三氟化镓与无机酸反应生成剧毒的氢氟酸 三氟化镓别名 gallium trifluoride识别CAS号 7783 51 9 PubChem 82211ChemSpider 74191SMILES F Ga F FInChI 1 3FH Ga h3 1H q 3 p 3InChIKey WXXZSFJVAMRMPV DFZHHIFOAM性质化学式 GaF3摩尔质量 126 718 g mol 外观 白色粉末密度 4 47 g cm3熔点 800 C沸点 1000 C溶解性 水 0 0002 g 100 mL结构晶体结构 三方晶系 hR24空间群 R 3c No 167危险性欧盟分类 未列出NFPA 704 0 3 2 若非注明 所有数据均出自标准状态 25 100 kPa 下 轴向结构图 沿c轴结构图 Ga的配位构型 F的配位构型参考资料 编辑 Greenwood N N Earnshaw A Chemistry of the Elements 2nd Oxford Butterworth Heinemann 1997 ISBN 0 7506 3365 4 2 0 2 1 2 2 Anthony John Downs 1993 Chemistry of Aluminium Gallium Indium and Thallium Springer ISBN 978 0 7514 0103 5扩展阅读 编辑Barriere A S Couturier G Gevers G Guegan H Seguelond T Thabti A Bertault D Preparation and characterization of gallium III fluoride thin films Thin Solid Films 1989 173 2 243 doi 10 1016 0040 6090 89 90140 5 取自 https zh wikipedia org w index php title 三氟化镓 amp oldid 77237290, 维基百科,wiki,书籍,书籍,图书馆,

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