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65纳米制程

65纳米制程半导体制造制程的一个技術水平。至2007年,英特尔AMDIBM聯華電子、特许半导体和台积电等公司已有能力进行65纳米制程的量產[1]

当制程进入65纳米之时,用于进行光刻的光的波长是193纳米和248纳米。具有低于光波波长的制造厂要求使用一些特殊技术,比如光学邻近校正和相位移掩膜板技术。此外,12英寸晶圓在此制程開始成为主流。

具有65纳米制程的产品 编辑

参考文献 编辑

  1. ^ 2006 industry roadmap (页面存档备份,存于互联网档案馆), Table 40a

65纳米制程, 是半导体制造制程的一个技術水平, 至2007年, 英特尔, 聯華電子, 特许半导体和台积电等公司已有能力进行的量產, 当制程进入65纳米之时, 用于进行光刻的光的波长是193纳米和248纳米, 具有低于光波波长的制造厂要求使用一些特殊技术, 比如光学邻近校正和相位移掩膜板技术, 此外, 12英寸晶圓在此制程開始成为主流, 具有的产品, 编辑intel, 奔腾4, 奔騰d, 2006年1月, intel, 酷睿2, conroe, conroe, merom, kentsfield, athlon, . 65纳米制程是半导体制造制程的一个技術水平 至2007年 英特尔 AMD IBM 聯華電子 特许半导体和台积电等公司已有能力进行65纳米制程的量產 1 当制程进入65纳米之时 用于进行光刻的光的波长是193纳米和248纳米 具有低于光波波长的制造厂要求使用一些特殊技术 比如光学邻近校正和相位移掩膜板技术 此外 12英寸晶圓在此制程開始成为主流 具有65纳米制程的产品 编辑Intel 奔腾4 奔騰D 2006年1月 Intel 酷睿2 Conroe Conroe XE Merom Kentsfield AMD Athlon 64系列 始于Lima 2007年2月 nVIDIA GeForce 8 部份系列 GeForce 9 部份系列 GeForce 100 部份系列 GeForce 200 2008年6月 部份系列 参考文献 编辑 2006 industry roadmap 页面存档备份 存于互联网档案馆 Table 40a 先前90纳米制程 半导体器件制造制程 其後45纳米制程 取自 https zh wikipedia org w index php title 65纳米制程 amp oldid 79487766, 维基百科,wiki,书籍,书籍,图书馆,

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