林本坚

林本坚 （1942年—），中華民國學者、中央研究院院士，現任国立清华大学特聘研究講座教授、半導體研究學院院長、台積電-清大聯合研發中心主任，廣東潮安人，出生於越南華僑家庭中，曾任台積電研發副總經理。

生平

1942年出生于越南堤岸，在當地的中華民國僑校完成小學、中學至高二，1959年以僑生身分插班进入臺灣省立新竹中學高中三年級，後來在未以僑生身份加分的原始總分424分，錄取當年最低錄取分數423分的国立台湾大学電機工程學系，並於1963年畢業，后留学美国，雖獲柏克萊加州大學錄取，但因女友的關係，留在俄州並於1970年毕业于俄亥俄州立大学获得电机工程学博士。^[1][2]后任职于IBM，1984年担任研发部经理。^[3][4] 1992年从IBM提前退休并同年创立领创公司担任总经理，2000年回到台湾加入台积电。^[5]2002年研发出193纳米浸润式微影技术，後該技術為ASML看重並得到採用，2015年从台积电退休后，担任国立清华大学特聘研究講座教授、半導體研究學院院長。^[6][7][8]他同時本身是一位虔誠的基督徒。^[9]

荣誉

• 2003年被选为电气电子工程师学会会士和国际光电工程学会会士。^[6]
• 2008年被选为美国国家工程院院士。^[10]
• 2013年获得IEEE西泽润一奖。^[2][4]
• 2014年被选为中央研究院院士。^[6]
• 2018年获得未来科学大奖数学与计算机科学奖。

参考来源

1. 蒙天祥. 僑生之光 林本堅榮膺中研院院士 (pdf). 僑協雜誌 (華僑協會總會). 2014年9月, (148): 37–39 [2021-01-22]. ISSN 1029-3167. 
2. ECE Alum Burn Lin receives IEEE Jun-ichi Nishizawa Medal. Ohio State University. 30 April 2013 [2 December 2018]. （原始内容于2021-01-26）. 
3. Burn J. Lin (1987). "The future of subhalf-micrometer optical lithography". Microelectronic Engineering 6, 31–51
4. Handy, Jim. Father of Immersion Litho Receives Award. Forbes. 26 June 2013 [2 December 2018]. （原始内容于2019-03-08）. 
5. Biography: Burn J. Lin. Semiconductor Research Corporation. [2 December 2018]. （原始内容于2019-02-26）. 
6. Semiconductor Pioneer Burn Lin Joins NTHU. National Tsing Hua University. 2016 [2 December 2018]. （原始内容于2018-12-03）. 
7. TSMC Burn Lin Academic Salon. 2016 [2 December 2018]. （原始内容于2018-12-03）. 
8. 没有他，就没有今天的台积电 ，搜狐新闻。
9. 存档副本. [2021-03-16]. （原始内容于2021-01-21）. 
10. Dr. Burn Jeng Lin. United States National Academy of Engineering. [2 December 2018]. （原始内容于2018-12-03）.