光罩（英語：Reticle, Mask）：在製作集成电路的過程中，利用光蝕刻技術，在半導體上形成圖型，為將圖型複製於晶圓上，必須透過光罩作用的原理[1]。比如沖洗照片時，利用底片將影像複製至相片上。
一片光罩的展示品 結構 编辑
- 實體結構：佈滿積體電路圖像的鉻金屬薄膜的石英玻璃片上的圖像。
- 倍縮光罩（Reticle）：在投影式光刻机中，掩模作为一个光学元件位于会聚透镜（condenser lens）与投影透镜（projection lens）之间，它并不和晶圆有直接接触。掩模上的图形缩小4~10倍（现代光刻机一般都是缩小4倍）后透射在晶圆表面。为了区别接触式曝光中使用的掩模，投影式曝光中使用的掩模又被称为倍缩式掩模（reticle）。
- 光罩（Mask）：當鉻膜玻璃上的圖像能覆蓋整個晶圓時稱之為光罩。
種類 编辑
参考文献 编辑
- ^ 光罩.Mask.Reticle. [2010-03-19]. （原始内容于2010-10-03）.
光罩, 英語, reticle, mask, 在製作集成电路的過程中, 利用光蝕刻技術, 在半導體上形成圖型, 為將圖型複製於晶圓上, 必須透過作用的原理, 比如沖洗照片時, 利用底片將影像複製至相片上, 一片的展示品結構, 编辑實體結構, 佈滿積體電路圖像的鉻金屬薄膜的石英玻璃片上的圖像, 倍縮, reticle, 在投影式光刻机中, 掩模作为一个光学元件位于会聚透镜, condenser, lens, 与投影透镜, projection, lens, 之间, 它并不和晶圆有直接接触, 掩模上的图形缩小4, 10. 光罩 英語 Reticle Mask 在製作集成电路的過程中 利用光蝕刻技術 在半導體上形成圖型 為將圖型複製於晶圓上 必須透過光罩作用的原理 1 比如沖洗照片時 利用底片將影像複製至相片上 一片光罩的展示品結構 编辑實體結構 佈滿積體電路圖像的鉻金屬薄膜的石英玻璃片上的圖像 倍縮光罩 Reticle 在投影式光刻机中 掩模作为一个光学元件位于会聚透镜 condenser lens 与投影透镜 projection lens 之间 它并不和晶圆有直接接触 掩模上的图形缩小4 10倍 现代光刻机一般都是缩小4倍 后透射在晶圆表面 为了区别接触式曝光中使用的掩模 投影式曝光中使用的掩模又被称为倍缩式掩模 reticle 光罩 Mask 當鉻膜玻璃上的圖像能覆蓋整個晶圓時稱之為光罩 種類 编辑相位移光罩 二元光罩参考文献 编辑 光罩 Mask Reticle 2010 03 19 原始内容存档于2010 10 03 nbsp 这是一篇與科学相關的小作品 你可以通过编辑或修订扩充其内容 查论编 取自 https zh wikipedia org w index php title 光罩 amp oldid 76394894, 维基百科，wiki，书籍，书籍，图书馆，
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