物理气相沉积（英語：Physical vapor deposition，PVD）是一種工業製造上的工藝，屬於鍍膜技術的一種，是主要利用物理方式來加熱或激發出材料过程来沉积薄膜的技术，即真空鍍膜(蒸鍍)，多用在切削工具與各種模具的表面處理，以及半導體裝置的製作工藝上。
和化学气相沉积相比，物理气相沉积适用范围广泛，几乎所有材料的薄膜都可以用物理气相沉积来制备，但是薄膜厚度的均匀性是物理气相沉积中的一个问题。
主要的物理气相沉积的方法有[1]：
| 物理气相沉积 | | 蒸鍍（Evaporative PVD） | | | 电阻蒸发 Resistive PVD | | | | | 感应蒸发 Inductive PVD | | | | | 激光蒸发 Laser PVD | | | | 电子束蒸发 EB PVD | 灯丝电子束 | | | | | | | 溅鍍 Sputtering PVD | | | 双极溅射 | | | | 磁控溅射 | | | 平衡式磁控濺射(Balanced Magnetron Sputtering) | | | | | 不平衡式磁控濺射(Unbalanced Magnetron Sputtering，簡稱：UBS) | | | | | | | | 离子束溅射 | | | | | 三极溅射 | | | | | | | 离子镀 Ion Plating PAPVD | | | 直流二极等离子辅助物理气相沉积 | | | | | 三极活性反应蒸发 | | | | | 射频离子镀 | | | | | 脉冲等离子体离子镀 | | | | | 离子束辅助 | | | | | 中空陰極放電(HCD:Hollow Cathode Discharge) | | | | | 電弧放電式(Arc) | | | | | 電弧結合不平衡磁場濺射混合式(ABS:Arc Bond Sputter) | | | | | | |
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参见 编辑
参考文献 编辑
- ^ 金海波 (编). 现代表面处理新工艺、新技术与新标准 (PDF). 当代中国音像出版社. : 27 [2020-07-23]. （原始内容 (PDF)于2021-04-14）.
外部連結 编辑
- Society of Vacuum Coaters （页面存档备份，存于互联网档案馆）
- —an animation of a generic PVD sputter tool
物理气相沉积, 英語, physical, vapor, deposition, 是一種工業製造上的工藝, 屬於鍍膜技術的一種, 是主要利用物理方式來加熱或激發出材料过程来沉积薄膜的技术, 即真空鍍膜, 蒸鍍, 多用在切削工具與各種模具的表面處理, 以及半導體裝置的製作工藝上, 和化学气相沉积相比, 适用范围广泛, 几乎所有材料的薄膜都可以用来制备, 但是薄膜厚度的均匀性是中的一个问题, 主要的的方法有, 蒸鍍, evaporative, 电阻蒸发, resistive, 感应蒸发, inductive, 激光蒸发. 物理气相沉积 英語 Physical vapor deposition PVD 是一種工業製造上的工藝 屬於鍍膜技術的一種 是主要利用物理方式來加熱或激發出材料过程来沉积薄膜的技术 即真空鍍膜 蒸鍍 多用在切削工具與各種模具的表面處理 以及半導體裝置的製作工藝上 和化学气相沉积相比 物理气相沉积适用范围广泛 几乎所有材料的薄膜都可以用物理气相沉积来制备 但是薄膜厚度的均匀性是物理气相沉积中的一个问题 主要的物理气相沉积的方法有 1 物理气相沉积 蒸鍍 Evaporative PVD 电阻蒸发 Resistive PVD 感应蒸发 Inductive PVD 激光蒸发 Laser PVD 电子束蒸发 EB PVD 灯丝电子束 溅鍍 Sputtering PVD 双极溅射 磁控溅射 平衡式磁控濺射 Balanced Magnetron Sputtering 不平衡式磁控濺射 Unbalanced Magnetron Sputtering 簡稱 UBS 离子束溅射 三极溅射 离子镀 Ion Plating PAPVD 直流二极等离子辅助物理气相沉积 三极活性反应蒸发 射频离子镀 脉冲等离子体离子镀 离子束辅助 中空陰極放電 HCD Hollow Cathode Discharge 電弧放電式 Arc 電弧結合不平衡磁場濺射混合式 ABS Arc Bond Sputter 参见 编辑 nbsp 工程主题 nbsp 技术主题 表面处理参考文献 编辑 金海波 编 现代表面处理新工艺 新技术与新标准 PDF 当代中国音像出版社 27 2020 07 23 原始内容存档 PDF 于2021 04 14 外部連結 编辑Society of Vacuum Coaters 页面存档备份 存于互联网档案馆 PVD Animation an animation of a generic PVD sputter tool Physical vapor deposition 取自 https zh wikipedia org w index php title 物理气相沉积 amp oldid 73432388, 维基百科，wiki，书籍，书籍，图书馆，
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