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旋转涂覆

旋转涂覆是一种高速成膜方法,可以得到均匀的薄膜,均匀性广泛应用于半导体材料及化工材料等薄膜制备。它利用旋转产生的离心力,将溶胶溶液悬浊液等均匀平铺到衬底表面。[1]

參考文獻 编辑

  1. ^ Cohen, Edward; Lightfoot, E. J., Coating Processes, Kirk-Othmer Encyclopedia of Chemical Technology, New York: John Wiley, 2011, ISBN 9780471238966, doi:10.1002/0471238961.1921182203150805.a01.pub3 

旋转涂覆, 此條目需要补充更多来源, 2012年4月11日, 请协助補充多方面可靠来源以改善这篇条目, 无法查证的内容可能會因為异议提出而被移除, 致使用者, 请搜索一下条目的标题, 来源搜索, 网页, 新闻, 书籍, 学术, 图像, 以检查网络上是否存在该主题的更多可靠来源, 判定指引, 是一种高速成膜方法, 可以得到均匀的薄膜, 均匀性广泛应用于半导体材料及化工材料等薄膜制备, 它利用旋转产生的离心力, 将溶胶, 溶液或悬浊液等均匀平铺到衬底表面, 參考文獻, 编辑, cohen, edward, lightf. 此條目需要补充更多来源 2012年4月11日 请协助補充多方面可靠来源以改善这篇条目 无法查证的内容可能會因為异议提出而被移除 致使用者 请搜索一下条目的标题 来源搜索 旋转涂覆 网页 新闻 书籍 学术 图像 以检查网络上是否存在该主题的更多可靠来源 判定指引 旋转涂覆是一种高速成膜方法 可以得到均匀的薄膜 均匀性广泛应用于半导体材料及化工材料等薄膜制备 它利用旋转产生的离心力 将溶胶 溶液或悬浊液等均匀平铺到衬底表面 1 參考文獻 编辑 Cohen Edward Lightfoot E J Coating Processes Kirk Othmer Encyclopedia of Chemical Technology New York John Wiley 2011 ISBN 9780471238966 doi 10 1002 0471238961 1921182203150805 a01 pub3 取自 https zh wikipedia org w index php title 旋转涂覆 amp oldid 68710847, 维基百科,wiki,书籍,书籍,图书馆,

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