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图奥莫·松托拉

图奥莫·松托拉芬蘭語Tuomo Suntola,1943年),芬兰发明家和技术领先人物,以其在材料科学方面的开拓性研究而著称。他开发了名为“原子层沉积”的薄膜增长技术,并因该技术获得了2018年的千禧年科技奖[1]

图奥莫·松托拉
Tuomo Suntola
原文名Tuomo Suntola
出生1943年
 芬兰坦佩雷
国籍 芬兰
母校赫尔辛基理工大学
知名于原子层沉积
奖项千禧年科技奖(2018年)
科学生涯
研究领域材料科学

参考文献 编辑

  1. ^ 2018 MILLENNIUM TECHNOLOGY PRIZE FOR TUOMO SUNTOLA – FINNISH PHYSICIST'S INNOVATION ENABLES MANUFACTURE AND DEVELOPMENT OF INFORMATION TECHNOLOGY PRODUCTS. Technology Academy Finland. 2018-05-22 [2018-05-22]. (原始内容于2020-10-02) (芬兰语). 

外部链接 编辑

  • 个人网站(页面存档备份,存于互联网档案馆(英文)
  • Riikka L. Puurunen: A Short History of Atomic Layer Deposition: Tuomo Suntola's Atomic Layer Epitaxy (页面存档备份,存于互联网档案馆(英文)
  • Physics Foundations Society: Tuomo Suntola(页面存档备份,存于互联网档案馆(英文)
  • Physics Foundations Society: The Dynamic Universe(页面存档备份,存于互联网档案馆(英文)

图奥莫, 松托拉, 芬蘭語, tuomo, suntola, 1943年, 芬兰发明家和技术领先人物, 以其在材料科学方面的开拓性研究而著称, 他开发了名为, 原子层沉积, 的薄膜增长技术, 并因该技术获得了2018年的千禧年科技奖, tuomo, suntola原文名tuomo, suntola出生1943年, 芬兰坦佩雷国籍, 芬兰母校赫尔辛基理工大学知名于原子层沉积奖项千禧年科技奖, 2018年, 科学生涯研究领域材料科学参考文献, 编辑, 2018, millennium, technology, priz. 图奥莫 松托拉 芬蘭語 Tuomo Suntola 1943年 芬兰发明家和技术领先人物 以其在材料科学方面的开拓性研究而著称 他开发了名为 原子层沉积 的薄膜增长技术 并因该技术获得了2018年的千禧年科技奖 1 图奥莫 松托拉Tuomo Suntola原文名Tuomo Suntola出生1943年 芬兰坦佩雷国籍 芬兰母校赫尔辛基理工大学知名于原子层沉积奖项千禧年科技奖 2018年 科学生涯研究领域材料科学参考文献 编辑 2018 MILLENNIUM TECHNOLOGY PRIZE FOR TUOMO SUNTOLA FINNISH PHYSICIST S INNOVATION ENABLES MANUFACTURE AND DEVELOPMENT OF INFORMATION TECHNOLOGY PRODUCTS Technology Academy Finland 2018 05 22 2018 05 22 原始内容存档于2020 10 02 芬兰语 外部链接 编辑个人网站 页面存档备份 存于互联网档案馆 英文 Riikka L Puurunen A Short History of Atomic Layer Deposition Tuomo Suntola s Atomic Layer Epitaxy 页面存档备份 存于互联网档案馆 英文 Physics Foundations Society Tuomo Suntola 页面存档备份 存于互联网档案馆 英文 Physics Foundations Society The Dynamic Universe 页面存档备份 存于互联网档案馆 英文 取自 https zh wikipedia org w index php title 图奥莫 松托拉 amp oldid 79959271, 维基百科,wiki,书籍,书籍,图书馆,

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