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曝光機（英語：Aligner）是積體電路製造的关键設備。從發展歷史來看一共五種機型，分别為接觸式(contact)，接近式(proximity)，步進式(stepper)，掃描式(scanner)，重複式(repeat)。截至2023年，12吋以上的晶圓大多使用掃描式對準機來做曝光，其晶圓產能也是五種機型內最佳的。
法国研究所暗室中的小型曝光機 左:EVG-620 右:MA-150 概要 编辑
在晶圓微影製程技術中，會將塗好光阻的晶圓藉由機械手臂傳送到曝光機中先進行對準而後曝光。隨著科技的進步，早期接觸式和接近式的對準機以1:1的方式將電路圖案曝光在晶圓上，但這種作法導致晶圓每次能曝光的圖案有限，2000年以後出現了能將電路圖案以4:1縮小投影在晶圓上的掃描式對準機，於是晶圓的產能得到4倍以上的生產速度，同時也宣布超大晶圓時代(ULSI)的來臨。
主要厂商 编辑
曝光機是生产大规模集成电路的核心設備，因此曝光機价格昂贵，除了機型外價格還取決於適用的曝光光源波段，DUV製程曝光機落在5千萬至1億美元之間，而近幾年異軍突起成為主流的ASML EUV Twinscan光刻機造價更是落在3億美元以上。
光刻机, 本條目存在以下問題, 請協助改善本條目或在討論頁針對議題發表看法, 此條目没有列出任何参考或来源, 2017年3月10日, 維基百科所有的內容都應該可供查證, 请协助補充可靠来源以改善这篇条目, 无法查证的內容可能會因為異議提出而被移除, 此條目需要精通或熟悉半導體的编者参与及协助编辑, 2023年4月12日, 請邀請適合的人士改善本条目, 更多的細節與詳情請參见討論頁, 另見其他需要半導體專家關注的頁面, 曝光機, 英語, aligner, 是積體電路製造的关键設備, 從發展歷史來看一共五種機型, 分别. 本條目存在以下問題 請協助改善本條目或在討論頁針對議題發表看法 此條目没有列出任何参考或来源 2017年3月10日 維基百科所有的內容都應該可供查證 请协助補充可靠来源以改善这篇条目 无法查证的內容可能會因為異議提出而被移除 此條目需要精通或熟悉半導體的编者参与及协助编辑 2023年4月12日 請邀請適合的人士改善本条目 更多的細節與詳情請參见討論頁 另見其他需要半導體專家關注的頁面 曝光機 英語 Aligner 是積體電路製造的关键設備 從發展歷史來看一共五種機型 分别為接觸式 contact 接近式 proximity 步進式 stepper 掃描式 scanner 重複式 repeat 截至2023年 12吋以上的晶圓大多使用掃描式對準機來做曝光 其晶圓產能也是五種機型內最佳的 法国研究所暗室中的小型曝光機 左 EVG 620 右 MA 150概要 编辑在晶圓微影製程技術中 會將塗好光阻的晶圓藉由機械手臂傳送到曝光機中先進行對準而後曝光 隨著科技的進步 早期接觸式和接近式的對準機以1 1的方式將電路圖案曝光在晶圓上 但這種作法導致晶圓每次能曝光的圖案有限 2000年以後出現了能將電路圖案以4 1縮小投影在晶圓上的掃描式對準機 於是晶圓的產能得到4倍以上的生產速度 同時也宣布超大晶圓時代 ULSI 的來臨 主要厂商 编辑曝光機是生产大规模集成电路的核心設備 因此曝光機价格昂贵 除了機型外價格還取決於適用的曝光光源波段 DUV製程曝光機落在5千萬至1億美元之間 而近幾年異軍突起成為主流的ASML EUV Twinscan光刻機造價更是落在3億美元以上 ASML 尼康 佳能 SUSS 英语 SUSS MicroTec ABM Industries 英语 ABM Industries 取自 https zh wikipedia org w index php title 光刻机 amp oldid 78275640, 维基百科，wiki，书籍，书籍，图书馆，
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